公司成立于2018年9月，是一家集研发、生产、销售为一体的半导体镀膜工艺设备的高新技术企业，荣获南京市培育独角兽、2023年创客中国江苏省三等奖等，已完成B轮超3亿的股权融资。 2019年9月第一台ALD设备顺利通过复旦大学“专用集成电路与系统”国家重点实验室验证，同时建立联合研发平台。 原磊的原子层沉积（ALD）设备可广泛应用于半导体先进制程、泛半导体、MEMS和光学器件上的薄膜沉积；主要客户包括：北京大学、复旦大学、华中科技大学、华润微电子、华为海思等。 目前已建成行业内最高标准的装配、测试和研发中心；已授权专利60余件，其中19件发明；已通过国际SEMI认证、CE认证、ISO认证等。