公司历经多年不懈努力，成功开发了独特的难熔金属高温高压气相沉积技术（HTHP-CVD），该技术可同时实现难熔金属材料的超高纯度、高致密度和高均匀性，是集成电路、核能以及生物医用等高科技领域关键的“卡脖子”原材料。其主要产品为高纯难熔金属靶材，其中高纯钨靶材纯度优于99.99999%（7N+），已通过国内某知名半导体企业试用，并作为国产替代产品批量使用。在核能领域，主要产品为发电元件高纯难熔金属发射极，是国内唯一通过用户验证的供货商。在生物医用领域，与北京大学口腔医院合作，开发可生物降解引导组织再生膜，已完成大动物实验，较传统引导组织再生膜材料在降解速率、力学性能方面均显示出明显优势。