企业介绍
公司成立于2023年,清洗设备广泛应用于半导体衬底、芯片晶圆、太阳能硅晶片、太阳能晶硅电池、平板显示、蓝宝石衬底、印刷电路板、汽车电子、半导体精密零部件等各领域。公司自成立以来,始终注重技术创新和研发投入,在半导体湿法制程设备行业里独树一帜。公司目前拥有一支强大的研发团队,半导体湿法工艺、机械设计、电气自动化设计、PLC自动化控制、人工AI智能等各领域研发人员20多人。公司将持续加大研发投入,以科技研发带动市场,以客户满意为标准,全力以赴在半导体行业不断推陈出新,打破进口设备的垄断,力争成为国内第一梯队优秀的湿法制程设备供应商。