公司从事光刻机、化学气相沉积设备、离子注入机等半导体设备再制造领域8年，近两年主导产品在国内市场占有率分别为5%、8%，位居国内第7、江苏省内第2;公司主导产品为等离子刻蚀承载装置及光刻机，该产品首创背面接触电容式传感改造及薄膜均匀性补偿技术，补偿后沉积膜厚的均匀性可从原来的5%提高到小于2%，填补了光刻机均匀性普遍在5%在国内空白，技术水平处于国际先进水平，产品销往国内和欧美等国家和地区;公司先后获得高新技术企业、江苏省双创人才企业、姑苏领军人才企业、张家港市小巨人（培育）企业、张家港市创业型领军人才企业、苏州市工程技术研究中心、苏州瞪羚企业等荣誉;拥有有效授权发明26件、实用新型25件。