企业介绍
我司的主导产品是高纯度半导体硅晶圆片,自主研发的气相掺杂控制技术通过将易挥发的磷、硼、砷、锑等掺杂物质汽化并精准导入硅溶汤,显著提升工艺效率——掺杂效率提高50%,硅片导电性能同步增强66%;在抛光工艺中,创新采用铬离子与氨基酸结合技术,利用三价铬离子与氨基酸的协同作用,使抛光后硅晶圆表面呈现均匀蓝白色泽,光泽度提升40%;引入高精度金刚线多线切割工艺,单晶硅片最大尺寸可达230毫米,满足大尺寸芯片制造需求;结构设计上,通过在硅片衬底中间嵌入二氧化硅镀层,有效降低寄生电容51%,同时将集成密度提升25%。